1. Dusty Plasmas: Physics, Chemistry and Technologyical impacts in plasma
پدیدآورنده: / Edited by Andre Bouchoule
کتابخانه: کتابخانه مرکزی و مرکز اطلاع رسانی دانشگاه محقق اردبیلی ره (اردبیل)
موضوع: Plasma engineering.,Plasma(Ionized gases _ Industrial applications).,Dust.,Plasma chemistry.,Plasma enhanced chemical vapor deposition.
رده :
TA2020
.
D
38
2. Dusty plasma: Physics, chemistry and technological impacts in plasma processing
پدیدآورنده: / edited by Andre Bouchoule
کتابخانه: کتابخانه مرکزی، مرکز اسناد و تامین منابع علمی دانشگاه صنعتی سهند (آذربایجان شرقی)
موضوع: Plasma engineering,Plasma (Ionized gases)- Industrial applications,Dust,Plasma chemistry,Plasma enhanced chemical vapor deposition
رده :
TA2020
.
D88
1999
3. Dusty plasmas:physice,chemistry and technological impacts in plasma processing
پدیدآورنده:
کتابخانه: كتابخانه مركزی و مركز اسناد دانشگاه مازندران (مازندران)
موضوع: Plasma engineering,Plasma(Ionized gases-Industrial applications),Dust,Plasma chemistry,Plasma enhanced chemical vapor deposition
رده :
TA2020
.
D88
1999
4. Dusty plasmas : physics, chemistry, and technological impacts in plasma processing
پدیدآورنده : edited by Andre Bouchoule
موضوع : ، Plasma engineering,Industrial applications ، Plasma )Ionized gases(,، Dusty plasmas,، Plasma chemistry,، Plasma-enhanced chemical vapor deposition
۲ نسخه از این کتاب در ۲ کتابخانه موجود است.
5. Dusty plasmas : physics, chemistry, and technological impacts in plasma processing
پدیدآورنده: edited by Andre Bouchoule
کتابخانه: کتابخانه پژوهشگاه دانشهای بنیادی (تهران)
موضوع: ، Plasma engineering,Industrial applications( ، Plasma )Ionized gases(,، Dusty plasmas,، Plasma chemistry,، Plasma-enhanced chemical vapor deposition
رده :
TA
2020
.
D8
6. Engineering, chemistry, and use of plasma reactors
پدیدآورنده:
کتابخانه: كتابخانه مركزی دانشگاه صنعتی شریف (تهران)
موضوع: ، Plasma chemistry-- Industrial applications-- Congresses
رده :
TP
156
.
P5
.
E54
7. Industrial plasma technology
پدیدآورنده: / edited by Yoshinobu Kawai ... [et al.
کتابخانه: کتابخانه مرکزی، مرکز اسناد و تامین منابع علمی دانشگاه صنعتی سهند (آذربایجان شرقی)
موضوع: Plasma engineering,Plasma chemistry--Industrial applications
رده :
TA2020
.
I64
2010
8. Industrial plasma technology :
پدیدآورنده: edited by Yoshinobu Kawai ... [et al.]
کتابخانه: مرکز و کتابخانه مطالعات اسلامی به زبان‌های اروپایی (قم)
موضوع: Plasma chemistry-- Industrial applications,Plasma engineering
رده :
TA2020
.
I64
2010
9. Industrial plasma technology : applications from environmental to energy technologies
پدیدآورنده:
کتابخانه: کتابخانه پردیس بین الملل كیش دانشگاه تهران (هرمزگان)
موضوع: Plasma engineering,Plasma chemistry Industrial applications,Interconnected electric utility systems.
10. Integrated design by optimization of electrical energy systems
پدیدآورنده:
کتابخانه: کتابخانه پردیس بین الملل كیش دانشگاه تهران (هرمزگان)
موضوع: Electric power systems Design and construction,Plasma chemistry Industrial applications,Interconnected electric utility systems.
11. Plasma chemical processing
پدیدآورنده:
کتابخانه: كتابخانه مركزی دانشگاه صنعتی شریف (تهران)
موضوع: ، Plasma chemistry-- Industrial applications-- Congresses
رده :
TP
156
.
P5
.
P53
12. Plasma sciences and the creation of wealth
پدیدآورنده: / P.I. John
کتابخانه: کتابخانه مرکزی، مرکز اسناد و تامین منابع علمی دانشگاه صنعتی سهند (آذربایجان شرقی)
موضوع: Plasma chemistry - Industrial applications
رده :
TP156
.
P5J64
2005
13. Plasma technologies for textile and apparel
پدیدآورنده: edited by S.K. Nema and P.B. Jhala.
کتابخانه: مرکز و کتابخانه مطالعات اسلامی به زبان‌های اروپایی (قم)
موضوع: Plasma chemistry -- Industrial applications.,Plasma engineering.,Textile industry.
رده :
TP156
.
P5
E358
2015
14. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده: / Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
کتابخانه: کتابخانه مرکزی و مرکز اطلاع رسانی دانشگاه محقق اردبیلی ره (اردبیل)
موضوع: Plasma dynamics,Thin films, Surfaces,Plasma etching,Plasma chemistry, Industrial applications
رده :
QC718
.
5
.
D9L54
2005
15. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده: / Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg.
کتابخانه: سازمان اسناد و كتابخانه ملی جمهوری اسلامی ایران (تهران)
موضوع: دینامیک پلاسما,لایه‌های نازک -- رویه‌ها,Plasma etching,Plasma chemistry -- Industrial applications
رده :
QC
۷۱۸
/
۵
/
د
۹
ل
۹ ۱۳۸۴
16. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده : Lieberman, M. A. )Michael A.(
موضوع : ، Plasma dynamics,، Thin films-- Surfaces,، Plasma etching,، Plasma chemistry-- Industrial applications
۲ نسخه از این کتاب در ۲ کتابخانه موجود است.
17. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده: / Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
کتابخانه: كتابخانه مركزی و مركز اسناد دانشگاه مازندران (مازندران)
موضوع: Plasma dynamics,Thin films- Surfaces,Plasma etching,Plasma chemistry- Industrial applications
رده :
QC718
.
5
.
D9
,
L54
2005
18. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده: / Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
کتابخانه: کتابخانه مرکزی، مرکز اسناد و تامین منابع علمی دانشگاه صنعتی سهند (آذربایجان شرقی)
موضوع: Plasma dynamics,Thin films- Surfaces,Plasma etching,Plasma chemistry- Industrial applications
رده :
QC718
.
5
.
D9L54
2005
19. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده: / Michael A. Lieberman and Allan J. Lichtenberg
کتابخانه: کتابخانه پرديس 2 دانشکده‌های فنی دانشگاه تهران (تهران)
موضوع: Plasma dynamics,Thin films ــ Surfaces.,Plasma etching ــ Surfaces.,Plasma chemistry ــ Industrial applications.
رده :
QC
718
.
5
.
D9L54
2005
20. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده: Lieberman, M. A. )Michael A.(
کتابخانه: كتابخانه مركزی و مركز اسناد دانشگاه صنعتی خواجه نصير الدين طوسى (تهران)
موضوع: ، Plasma dynamics,Surfaces ، Thin films,، Plasma etching,Industrial applications ، Plasma chemistry
رده :
QC
718
.
5
.
D9
L54
2005
